PVD /CVD 前處理超音波清潔設備

Ab solute Chemie也提供PVD/CVD 鍍膜前處理超音波清洗設施，我們的系統包括一系列清潔必備組成元件，如：淨水系統、逆滲透、離子交換器、熱空氣及真空吸塵乾燥和自動化整合運送。我們的清洗系統通常由7或9個清洗槽組成，也可依客戶需求作客制化改良。

基本 PVD/CVD 前處理流程：

1. Defatting 去油/脂

2. Rinse 洗淨

3. Fine cleaning 完全潔淨

4. Rinse 清洗

5. 3-chamber rinsing cascade 3槽式連續式清洗

6. hot air drying 烘乾

我們也另外提供單槽式清洗設備，專為小量使用者或實驗室量身訂作，此單槽式設備可以一次完成清潔、清洗和乾燥動作。

此清洗設備可以和退鍍系統作為結合，達到一機二用的目的，另外如您須要客製化的要求，我們也能盡力達到您的目標。