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VTD
發展VERA
系列提供使用者現代化、專業化、高成本效益的鍍膜設備。其光學精密鍍膜以垂直式的機體結構與各種真空腔體作為結合，VTD的科技確保高長期重複性下穩定的鍍膜品質。不同尺寸的系統模式裝置搭配多種測量儀器和流程控制，我們的光學鍍膜系統能涵蓋多量小型元件鍍膜到單一大型底材鍍膜
(大約直徑 2,000mm)。我們的系統可以依客戶或應用方式來作選配,
因為其外加輔助的鍍膜技術完善先進，新鍍膜材質在有利的條件下便可以被研發或生產出來。
奈米級的薄膜鍍層可以徹底改變許多材料的光學、電子、機械性能，金屬和絕緣性物質通常被用來當作鍍膜材料。在精準膜厚和高度潔淨的條件下，這些靶材通常被拿來當作蒸發材料鍍到玻璃、陶瓷、金屬或塑膠上。玻璃鍍膜中反射率和透光率是基本的須求，但是被鍍元件的光吸收率可以影響到整個光波的性能，這意謂著蒸發鍍膜技巧或真空系統是需要被很精密穩定的運作。舉例，在玻璃片的兩面鍍上鎂氟化物，光波傳輸索引大約為91.8%
到 97.5%
，但在多層鍍膜應用下，大於99%
光波傳輸索引是可以被達成的。
被鍍物件放置在真空腔體內特殊的夾具上，在蒸發源作一次或多次的旋轉運動，系統提供使用者
6 kW到10kW抗熱電阻
(coil / boat)
作為蒸發器。在工業用途上，濺鍍設備也可以被彈性的應用，這樣的附加應用提高了開發新種類鍍膜的可能性。
平常工作下要在短時間內產生所需的真空度,
一組真空系統通常包括了機械幫浦和一個油擴散式幫浦。而高真空幫浦, 渦輪分子式幫浦或冷凍幫浦則是應用在光學鍍膜技術上。
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