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真空金屬鍍膜 |超硬鍍膜 |光學鍍膜 |Plasma treatment |Vacuum Components
 
 
德國真空鍍膜設備
 
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VTD真空金屬鍍膜系統

 
 

真空金屬鍍膜基本概念

 
 

真空金屬鍍膜主要目的為增加產品的附加價值:

 
  • 提升反射特性
  • 電磁波防護
  • 達到表面裝飾效果
 

金屬表面鍍膜科技包含了幾個步驟:底材與靶材間的配合,對被鍍物的要求,可應用於真空金屬鍍的材料包括了塑膠、玻璃、陶瓷、和金屬等底材。對某些特殊底材,良好的靶材應用是可以提升鍍膜的附著性。

 
 

在鍍膜過程中,被鍍物件被放置在旋轉式籃架上,並在真空腔體內隨著蒸發源作旋轉運動。特殊夾制具的設計可依需求作單一旋轉或行星式運動,底材上不需鍍膜的面積則需要遮蓋 (masking)。

 
 

當真空腔體間關閉後,系統可依需求加壓到1 to 5 × 10-4 mbar 。在某些特殊狀況下,光輝電漿放電會在鍍膜後實行。靶材會在絲/籃型抗熱加熱器中蒸發。

 
 

蒸發材料如:AlCuCrNiSnAgAu 或複合物如:ZnSMgFSiOx可以被使用。除了抗熱蒸發源,冷電弧蒸發也可以用來蒸發鉻(Cr)及不袗靶材。一般性膜厚介於0.05 到幾個μm之間,取決於何種鍍膜應用。例:抗電磁波保護膜是取決於產品應用需求。

 
 

沉積後的膜是可以經由HDMS (Hexamethyldisiloxan) 來做為保護,避免氧化或撞擊而傷害表面(此流程是聚合物在真空中經由電漿讓聚合物反應合成的塗層)

 
 

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真空鍍膜設備 真空表面鍍膜設備
 

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