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| VTD的產品包括了新技術的研究開發，及專門為塑膠、玻璃、陶瓷和金屬的水平式/垂直式的真空鍍膜系統做銷售。鍍膜系統可以專門為顧客的產品量身訂作，VTD
的真空腔體直徑從1,000mm到2,050mm
配合不同的腔體長度。VTD的產品也已經在不同的工業和國際市場上銷售了幾十年。
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標準真空金屬鍍膜是在爐式腔體內完成，特殊金屬鍍膜，如：平面玻璃、薄膜、金屬磁帶...等，連續式進給器或滾筒鍍膜是最有效的，獨立流程的金屬鍍膜步?可以在連續系統中操作以達到大量高效率的生產模式。 |
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在傳統爐式腔體，工件被置於旋轉式籃架然後整個放入真空爐中,
在鍍膜時，籃架被放在蒸發源周圍作單一或行星式運動，在多重旋轉中，工件以星狀模式放置在環狀周圍限制的以行星運動的夾制具上，工件無需鍍膜部份以遮敝
(Masking)
作為保護。
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| 抗熱性承載器 (絲/籃型)
所組成三個以上的蒸發源群組會被使用上，蒸發源材料如： Al、Cu、CrNi、Sn、Ag、Au
或復合物如：ZnS、MgF2、SiOx可以被使用，一般性膜厚介於0.05
到幾個μm之間，取決於何種鍍膜應用。
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要達到工作所需求的真空，不同機械組合方式的幫浦系統會被裝置上，如：旋轉式滑葉幫浦、魯式幫浦和其他真空幫浦。油擴散式幫浦會被使用為標準高真空產生器，在不同技術參數要求下，渦輪分子或冷凍幫浦系統它可以支援使用。而大型真空鍍膜系統則需求雙重幫浦裝置。
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