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真空金屬鍍膜 |超硬鍍膜 |光學鍍膜 |Plasma treatment |Vacuum Components
 
 
 
META ROT 500
META 1100
META 1200 V
META 1450
META 1800
META 1900
META 2050
 
現有客戶參考資料
 
表面處理
 
 
 
 

此系統配有 直徑1100mm × 長度1650mm 工作範圍內的真空腔體,它是應用於塑膠、玻璃、陶瓷和金屬等材料的鍍膜設備。可行性的蒸發材料包括了AlCu CrNiAgAu等基本靶材到ZnSMgF2SiOX等複合物。特殊底材的承載設計更確保了高充電容量,可使工件達到均勻的鍍膜效果,靶材和媒介物在應用上更可以完善配合使用者現有的鍍膜需求。充電時間介於1040分鐘,工時取決於個別鍍膜的應用。進一步的應用上更可以選配電漿聚合作用裝備 (Plasma Polymerization) 產生透明保護或電磁式保護厚膜。

META 1100 擁有人性化的操作介面 。

此系統可以廣泛的應用在多種領域,如:汽車、照明設備、電子配件到日常生活用品等工業。

內部直徑 mm 1 100
底材使用長度 mm 1 000 bis 1 350
行星系統 pcs. 12/8
環式遮蓋直徑 mm 170/240
最大鍍膜面積 8

 
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