系統為二半門式真空金屬鍍膜設備,它是應用在塑膠、玻璃、陶瓷和金屬等材料的鍍膜。真空腔體為
直徑1,200mm
× 高度2,100mm,適合的蒸發材料為Al、Cu、CrNi。加工物件可以放置在特殊設計的開放式真空腔體,然後另一個半門可放置下一個循環的加工物件已節省時間而達到高效率的產能,靶材和煤介物的應用更可以完善配合使用者現有的鍍膜需求。充電時間介於10到40分鐘,工時取決於個別鍍膜的應用。進一步的應用上更可以選配電漿聚合作用裝備
(Plasma
Polymerization)
產生透明保護薄膜或電磁式保護厚膜。
META 1200 V擁有人性化的操作介面,而且此系統可以廣泛的應用在多種領域,如:汽車、照明設備、電子配件到日常生活用品等工業。
內部直徑 |
mm |
1 200 |
底材使用長度 |
mm |
1 700 |
行星系統 |
pcs. |
12 |
環式遮蓋直徑 |
mm |
175 |
最大鍍膜面積 |
mm |
1600 |
|