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真空金屬鍍膜 |超硬鍍膜 |光學鍍膜 |Plasma treatment |Vacuum Components
 
 
 
META ROT 500
META 1100
META 1200 V
META 1450
META 1800
META 1900
META 2050
 
現有客戶參考資料
 
表面處理
 
 
 
 

系統為二半門式真空金屬鍍膜設備,它是應用在塑膠、玻璃、陶瓷和金屬等材料的鍍膜。真空腔體為 直徑1,200mm × 高度2,100mm,適合的蒸發材料為AlCuCrNi加工物件可以放置在特殊設計的開放式真空腔體,然後另一個半門可放置下一個循環的加工物件已節省時間而達到高效率的產能,靶材和煤介物的應用更可以完善配合使用者現有的鍍膜需求。充電時間介於1040分鐘,工時取決於個別鍍膜的應用。進一步的應用上更可以選配電漿聚合作用裝備 (Plasma Polymerization) 產生透明保護薄膜或電磁式保護厚膜。

META 1200 V擁有人性化的操作介面,而且此系統可以廣泛的應用在多種領域,如:汽車、照明設備、電子配件到日常生活用品等工業。

內部直徑 mm 1 200
底材使用長度 mm 1 700
行星系統 pcs. 12
環式遮蓋直徑 mm 175
最大鍍膜面積 mm 1600

 
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