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真空金屬鍍膜 |超硬鍍膜 |光學鍍膜 |Plasma treatment |Vacuum Components
 
 
 
DREVA ARC 400
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TINA 1000
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表面處理
 
 
 

 

高彈性、堅固耐用和經濟的真空爐體系統,專攻裝飾性及功能性超硬鍍膜
 

真空爐體系統已經發展了許多不同尺寸的腔體,加大的真空門尺寸和可替換的旋轉工作台允許靶材與底材在更大的空間做替換,旋轉夾制具和旋轉工作臺的組合甚至確保了複雜的3D物件鍍膜品質的一致性。

高效能真空幫浦系統整合了穩定性佳的全自動控制介面使鍍膜流程更加完善。

 

 
多樣化的技術彈性使此系統可以運用兩種不同的流程組合:
  • 空心陰極電弧放電
  • 真空電弧蒸發

在低壓氣體輸出時空心陰極放電可達到高密度的電漿。

 
電子衝擊加溫效應就是所謂的放射加熱,是運用在讓底材加溫的。而離子轟擊是用來做底材的清潔。
 
Ti、Cr和TiAl 等靶材用來作為大量蒸發源可反應沉積到已氮化金屬,碳化金屬及金屬carbonitrides 給予表面鍍膜更完善的應用範圍,濺鍍來源裝置整合運用在此系統也是可行的。
 

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