操作彈性佳，堅固耐用和經濟效益佳的裝飾性及功能性真空鍍膜設備，可以應用的鍍膜，如：TiCN、TiC、CrN、TiAIN、ZrN、TiZrN。

THE PLANT  ／  系統

TINA 1000是由之前TINA 901概念所發展出來的系統，由不鏽鋼材質組成的腔體配上大型腔門可以解決底及鈀材更換的問題，完整的旋轉圓盤和夾製具保証了底材在腔體內可得到完整的鍍膜品質。

高強度吸力的真空幫浦，配合上整合性佳的軟體控制系統及全自動的流程控制，完善的為使用者提供最佳鍍膜效果。

THE PROCESS  ／  流程

運用二種已被証實的工業用真空技術和高科技彈性的配合：

• 空心陰極電弧放電

• 真空電弧放電

高密度的電漿，可由空心陰極電弧放電，在低壓氣體輸入上來加以控制。電子轟擊是用來底材加熱而離子轟擊則被應用來作底材清潔。Ti、Cr、Zr、TiAI可被應用來作為蒸發源，並可在反應氣體沈積中為底材提供了氮化及碳化處理，這可以為底材提供了另一種完善的表面處理方式，濺鍍的應用也可以搭配在此系統。